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3N钛靶磁控溅射镀膜 晶粒均匀致密性好图13N钛靶磁控溅射镀膜 晶粒均匀致密性好图23N钛靶磁控溅射镀膜 晶粒均匀致密性好图3

3N钛靶磁控溅射镀膜 晶粒均匀致密性好

2022-03-02 14:538040询价
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发货 湖南长沙市
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产品详情

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       钛,英文名称 Titanium,元素符号 Ti ,原子序数 22 ,密度 4.454g/Cm3 ,物理性质:熔点 1668℃,沸点 3262℃,比热容 0.52(J /(Kg·K) ,蒸发热 421(KJ/Mol),熔化热 15.45(KJ/Mol),导电率 0.0234(106/Cm) 。由于高纯钛的成本相当昂贵,应用领域极其有限,主要用作半导体材料和超高真空装置中的吸气材料。高纯钛具有吸气性,特别是吸氢、CH4、Co2气体,因此它能在高真空和超高真空系统中获得广泛应用。用高纯钛溅射制作LSI、VLSI、ULSI的线路网时,可使这些集成件变得格外轻、薄、尺寸小而且线路密集。高纯钛靶材也可以用作阻挡层金属材料。下图是钛溅射靶材的两种典型的显微金相检测图片,平均粒径<50um。

钛金相
 

4N5 Ti titanium me<i></i>tal sputteri   99.995% Ti titanium sputtering   99.995% Ti titanium sputtering

99.995% Ti titanium sputtering   4N5 Ti titanium me<i></i>tal sputteri   99.995% Ti titanium sputtering

      我们生产高纯度的溅射靶材,它最重要的好处是在物理气相沉积的过程中,能获得具有优异的导电率和颗粒最小化的薄膜。以下表格是4N5高纯钛溅射靶的成分分析证明书。采用的分析方法:1. 使用GDMS或ICP-OES对金属元素进行分析;2. 使用LECO进行气体元素分析。 

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长沙鑫康新材料有限公司

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